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等离子刻蚀设备腔体
  • 等离子刻蚀设备腔体
产品名称

等离子刻蚀设备腔体

加工精度 0.01mm
是否定制 可按图纸定制
粗糙度 0.1μm
材料成分 微晶玻璃
我要定制 按客户需求接受定制;欢迎来厂参观!
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0769-82913501

在先进半导体制造中,等离子刻蚀设备对结构材料的热稳定性、尺寸精度和表面质量提出了极高要求
而使用微晶玻璃作为等离子刻蚀腔体可以大幅提升设备的热稳定性和刻蚀均匀性。微晶玻璃(Zerodur)具备极低的热膨胀系数,可达(CTE ≈ 0 ± 0.02 × 10⁻⁶/K)能够保证腔体在高频加热或冷却过程中的尺寸稳定性,同时微晶玻璃可达到光学级的表面粗糙度,有助于提升等离子体均匀性

 

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