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半导体石英环:蚀刻环、聚焦环和覆盖环

文章出处:http://www.jundro.cn/news/921.html人气:5时间:2025-09-09

在半导体制造中,精密部件对于实现高良率、稳定性和可靠性至关重要。其中,石英蚀刻环、聚焦环和覆盖环因其优异的热稳定性、耐化学性和尺寸精度,广泛应用于等离子蚀刻(RIE、ICP 和 CVD 系统)

 

什么是石英蚀刻环?

石英蚀刻环是安装在蚀刻室内的结构部件。其主要功能包括:

在蚀刻过程中保持等离子体均匀性

支撑晶圆并减少边缘效应

可承受恶劣的化学环境(例如,CF₄、SF₆、Cl₂ 气体)

与其他材料相比,可确保更长的蚀刻室组件使用寿命

由于石英具有高纯度、优异的介电性能和极低的污染,因此是半导体工艺设备的首选材料之一。

半导体蚀刻中的聚焦环

石英聚焦环对于控制等离子体密度和分布至关重要。它们安装在晶圆周围,用于:

提高整个晶圆表面的蚀刻均匀性

最大限度地减少微负载效应

稳定临界尺寸 (CD) 控制

保护底层蚀刻室部件免受等离子体直接暴露

精心设计的聚焦环可以显著提高良率并降低工艺波动性。

盖环及其功能

石英盖环是放置在腔室表面的保护性部件,用于保护硬件免受等离子侵蚀和化学侵蚀。其优势包括:

延长腔室组件的使用寿命

减少颗粒污染

降低设备停机时间和维护成本

盖环通常可定制以适应不同的工具平台,并可精确加工至±0.01毫米的公差,以实现高重复性。

应用

石英蚀刻环、聚焦环和盖环广泛应用于:

蚀刻设备(RIE、ICP、DRIE)

CVD 和 PECVD 系统

氧化炉和扩散炉

光刻支撑组件

定制石英加工服务

凭借先进的五轴数控加工和抛光技术,我们提供符合半导体行业标准的定制石英环。主要服务包括:

公差低至±0.001毫米

光学表面抛光 (Ra < 0.002 μm)

针对定制设计的复杂结构加工

快速定制加工和批量生产

联系电话:19527497983

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