在半导体制造中,精密部件对于实现高良率、稳定性和可靠性至关重要。其中,石英蚀刻环、聚焦环和覆盖环因其优异的热稳定性、耐化学性和尺寸精度,广泛应用于等离子蚀刻(RIE、ICP 和 CVD 系统)
什么是石英蚀刻环?
石英蚀刻环是安装在蚀刻室内的结构部件。其主要功能包括:
在蚀刻过程中保持等离子体均匀性
支撑晶圆并减少边缘效应
可承受恶劣的化学环境(例如,CF₄、SF₆、Cl₂ 气体)
与其他材料相比,可确保更长的蚀刻室组件使用寿命
由于石英具有高纯度、优异的介电性能和极低的污染,因此是半导体工艺设备的首选材料之一。
半导体蚀刻中的聚焦环
石英聚焦环对于控制等离子体密度和分布至关重要。它们安装在晶圆周围,用于:
提高整个晶圆表面的蚀刻均匀性
最大限度地减少微负载效应
稳定临界尺寸 (CD) 控制
保护底层蚀刻室部件免受等离子体直接暴露
精心设计的聚焦环可以显著提高良率并降低工艺波动性。
盖环及其功能
石英盖环是放置在腔室表面的保护性部件,用于保护硬件免受等离子侵蚀和化学侵蚀。其优势包括:
延长腔室组件的使用寿命
减少颗粒污染
降低设备停机时间和维护成本
盖环通常可定制以适应不同的工具平台,并可精确加工至±0.01毫米的公差,以实现高重复性。
应用
石英蚀刻环、聚焦环和盖环广泛应用于:
蚀刻设备(RIE、ICP、DRIE)
CVD 和 PECVD 系统
氧化炉和扩散炉
光刻支撑组件
定制石英加工服务
凭借先进的五轴数控加工和抛光技术,我们提供符合半导体行业标准的定制石英环。主要服务包括:
公差低至±0.001毫米
光学表面抛光 (Ra < 0.002 μm)
针对定制设计的复杂结构加工
快速定制加工和批量生产
联系电话:19527497983
如果您正在寻找用于半导体元件的定制高纯度石英加工服务,请立即联系我们获取报价