等离子刻蚀设备腔体

在先进半导体制造中，等离子刻蚀设备对结构材料的热稳定性、尺寸精度和表面质量提出了极高要求
而使用微晶玻璃作为等离子刻蚀腔体可以大幅提升设备的热稳定性和刻蚀均匀性。微晶玻璃（Zerodur）具备极低的热膨胀系数，可达（CTE ≈ 0 ± 0.02 × 10⁻⁶/K）能够保证腔体在高频加热或冷却过程中的尺寸稳定性，同时微晶玻璃可达到光学级的表面粗糙度，有助于提升等离子体均匀性