氮化铝导热盘

氮化铝（AlN）导热盘因其高热导率、高电绝缘性和良好机械强度，被广泛应用于半导体领域 高效热管理 晶圆加热／冷却盘 在化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）或退火炉中，AlN 导热盘均匀传导加热器产生的热量，保证炉内温度分布均匀，进而提升薄膜均匀性与工艺重复性。

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氮化铝（AlN）导热盘因其高热导率、高电绝缘性和良好机械强度，被广泛应用于半导体领域 高效热管理 晶圆加热／冷却盘 在化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）或退火炉中，AlN 导热盘均匀传导加热器产生的热量，保证炉内温度分布均匀，进而提升薄膜均匀性与工艺重复性。