氧化铝对准环/支撑环

在半导体制造中,氧化铝对准环/支撑环广泛用于等离子蚀刻、薄膜沉积、晶圆清洗等工艺。其作用主要包括
1. 晶圆对准/定位环
作用：帮助晶圆在蚀刻、沉积或清洗等过程中保持精准位置；

特征对应：外围的等距凹槽/突齿可能与腔体或设备中的其他结构“卡扣配合”，从而实现快速定位；

氧化铝陶瓷可耐高温、耐腐蚀，适合等离子体环境。

2. 晶圆传输夹具或支撑环
作用：作为晶圆托盘上的支撑或缓冲结构，用于稳定承载晶圆；

中间大孔适合通晶圆，外围结构用于卡住或限制移动。

3. 等离子蚀刻/沉积反应腔中的消耗件（Consumable Component）
作用：安装在反应腔内，接触或靠近等离子体，用于提供结构支撑或电气隔离；

开口/缺口：用于让气体通道、电极或探针穿过的设计，属于定制功能结构。

陶瓷吸片从原材料到成品需要运用很多工艺，工序繁多、技术难点大。钧杰陶瓷在吸片精密加工这一领域积累了丰富经验，我们从陶瓷烧结到精密加工生产等工序全程严密把控，确保吸片的品质过硬。