光刻晶圆步进机

光刻中的晶圆步进机 晶圆步进机是把掩模图案投射到涂有光刻胶的硅晶圆上的关键设备。它决定了图形能到底有多小、层与层之间能否精确对齐。除了光学与运动控制外，环境与材料的稳定性对最终图形同样关键   环境控制：湿度、温度、气压都很重要 湿度：某